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氧化铌靶材(Nb2Ox)

  • 产品资料
  • 技术参数
氧化铌旋转靶采用等离子喷涂工艺,喷涂尺寸根据客户要求定制。
氧化铌平面靶采用冷压烧结工艺,尺寸可根据客户要求加工。
纯度:99.99%
应用领域:薄膜太阳能工业、低辐射玻璃工业,平板显示工业,光学镀膜工业,工具装饰镀膜工业